硬件
洁净室兼容性：10级
工作温度：最高145°C
氮气流量：1.7 SCFM
工艺气体流量：平均20-50 SCCM
内部腔室尺寸：45.72 CM（W）X 45.72 CM（D）X 30.48 CM（H）—（18” x 18” x 12”）
腔室处理区：共12个托盘； 13个托盘插槽，用于灵活配置— 15英寸x 15英寸架子尺寸的托盘，用于不同的处理模式（活动，接地和浮动）—标准
配置：4个活动，4个接地，4个浮动
系统整体尺寸：59.69厘米（宽）x 71.12厘米（深）x 113.284厘米（高）—（23.5“ x 28” x 44.6“）
箱体材质：6061-T6铝
工艺气体输入：3个标准，第4个可选
质量流量控制器：可选，最多3个用于气体混合
符合SEMI™：S2 / S8
软件
配方数：12个，具有加载/保存/循环/链接功能
曝光时间范围：0-1200秒（20分钟）
定时器设置分辨率：1秒
G1000规格
用于引线键合表面处理和温和清洁应用
上海迹亚国际商贸有限公司
Gaia China Co.,Ltd.
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性能
射频等离子功率：550 VAC时为0-1000瓦，可选功率
射频漏磁：0.6 mA / m，4.15 x 10-7 A2 / m2平均
射频泄漏电气：平均1.6 V / m，4.2 V2 / m2
耗氮量：闲置0 SCF，峰值6.8 SCF，平均1.7 SCF
功耗（带泵）：闲置375W，峰值1000W，平均640W
反应气消耗量：闲置0 SCF，20-50 SCCM
散热：平均920瓦
配件
电源要求：208-230V，20安培，50/60 Hz，1相
系统重量：158.76公斤（350磅）