工艺室
•RIE（反应离子蚀刻）模式
•带 3 级淋浴喷头的立式室
•直径：9.2 英寸（适用于 8 英寸晶圆）
•单块铝（未焊接，最小化气体泄漏）
•均匀气流设计（专利号 10-1701381）
发电机
•频率：（射频）13.56MHz
•功率：最大300W（选件 600W）
•自动阻抗匹配
•过程监控
气流模块
•最大气体通道数：×4行
•气体流量控制：高重复性MFC
•吹扫线：×1 ea
•排气管 : × 1 ea
•MFC 流量 : Max.200 sccm (1 sccm 增量)
控制器
•DSP板载信号控制器
•自动/手动操作
•交互式集成软件
•10.2 英寸触摸屏 PC 和 USB 数据传输
•保存和加载工艺配方
•实时过程图和错误监控
•工艺模式：RIE
•电极尺寸：9.2 寸
•RF 发电机: 13.56MHz Max. 300W
•MFC：高达 200 sccm
•表压 ：Atm ~ 5 x 10-4 Torr
•几何尺寸：W.748 x D.1,139 x H.1,220 (mm)
