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西湖未来制造精密填孔设备

EP400-FH / EP600-FH精密填孔设备

随着集成电路技术的不断发展,对于更高集成度、更低功耗、更小封装体积的需求日益增加。传统平面的芯片连接方式已无法满足这些要求,因此需要一种新型的封装技术来实现芯片的垂直堆叠和高效互连。其中,2.5D/3D封装正在加速3D互连密度的技术突 破,TSV、TGV、TMWV等技术作为2.5D/3D封装的关键,越 来越受到行业重视。
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产品概述

西湖未来智造]EP400-FH/EP600-FH精密填孔设备采用微纳直写打印电子增材技术,结 合自研阵列式可调多打印头模组,可 实现TSV、TGV、TMV等精密互联孔的金属化。用户可直接根据CAD信息软件驱动设备进行填孔加工作业,替 代传统电镀工艺,简化加工 步骤,加快产品迭代,适用于多品种、小批量的产品加工场景。互联孔内所填充导电浆料为微纳米银浆、铜浆等金属导电浆料。

设备特点

互联孔无需预先沉积种子层;

环境友好型工艺(替代电镀工序);

支持DXF等加工图纸一键导入,软件驱动自动化加工;

低至200℃的烧结温度,适配PCB基、硅基、玻璃基等多种导通互联场景;

自研精密微型针头支持盲孔、通孔填充;

自研高固含量导电浆料,与孔壁结合紧密,致密度高;

支持最大12寸加工幅面;

应用场景

TSV、TGV、TMV孔垂直互联金属化,采用金属浆料填充方案替代传统电镀工艺,适用于小批量孔槽填充。无需预先加工种子层,导电填充材料可稳定黏附孔壁并通过可靠性测试。

工艺方案

填充材料为金属导电浆料或树脂油墨,打印方式为气动挤出式打印,将打印针头插入孔内部后进行材料挤出,逐步抬升打印针头使孔内填充完全。

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