工艺室
•等离子模式：PE（等离子蚀刻）和 RIE（反应离子蚀刻）模式
•尺寸：330×350×340（宽×深×高，mm）
•腔室结构：单/双/多电极/扩展腔室/粉末处理
•均匀气流设计（专利号 10-1697205）
电极
•液冷设计
•顶部陶瓷绝缘口袋
•射频噪声屏蔽罩
发电机
•低频：20~100kHz，最大。300W
•射频：13.56MHz，最大。300W 或 600W
•自动阻抗匹配
•过程监控
气流模块
•最大气体通道数：×4行
•气体流量控制：高重复性MFC
•吹扫线：×1 ea
•排气管 : × 1 ea
•MFC 流量 : Max.500 sccm (1 sccm 增量)
•工艺模式：PE / RIE / Dual
•腔室: W. 330 X D. 350 X H. 340(mm)
•LF 发电机: 20~100kHz Max. 300W / 13.56MHz Max. 300W or 600W
•MFC：高达 500 sccm
•表压 ：Atm ~ 5 x 10-4 Torr
•几何尺寸：W.800 x D.800 x H.1,800 (mm)
